Erinevused hapniku{0}}vaba vase ja tavalise puhta vase vahel
Hapnikuvaba vask (OFC) ja tavaline puhas vask on mõlemad kõrge-puhtusastmega vaskmaterjalid, kuid need erinevad oluliselt tootmisprotsessi, hapnikusisalduse, füüsikaliste omaduste, elektrijuhtivuse, mehaanilise jõudluse, korrosioonikindluse ja kasutusstsenaariumide poolest. Kuigi mõlemad on klassifitseeritud puhtaks vaseks, põhjustavad nende sisemine mikrostruktuur ja lisandite kontroll ilmseid lünki teenuse toimimises, eriti tipptasemel-elektri-, elektroonika- ja täppistootmise valdkondades.
Esiteks on kõige olulisem erinevus hapnikusisalduses ja tootmisprotsessis.
Tavalist puhast vaske, mida tavaliselt tuntakse sitke pigi vasena, toodetakse tavapärase sulatamise ja valamise teel. Selle tootmise ajal jääb vaskmaatriksisse väike kogus hapnikku, tavaliselt vahemikus 100 kuni 650 miljondikosa (ppm). See hapnik esineb peamiselt vaskoksiidi osakeste kujul, mis on jaotunud tera piiridel. Seevastu hapniku-vaba vask sulatatakse ja valatakse rangetes hapniku-vabades tingimustes, näiteks vaakumis või redutseerivas atmosfääris. Selle hapnikusisaldus on alla 10 ppm ja kõrge -kvaliteediga hapniku{10}}vaba vask võib ulatuda isegi alla 5 ppm. Ülimadal hapnikusisaldus on põhiomadus, mis eristab OFC-d tavalisest puhtast vasest.
Teiseks näitavad elektri- ja soojusjuhtivus selgeid erinevusi.
Vask on-tuntud oma suurepärase juhtivuse poolest ning hapniku ja oksiidide olemasolu takistab veidi elektronide liikumist. Tavalisel puhtal vasel on hea juhtivus, ulatudes üldiselt 97–98%-ni rahvusvahelisest lõõmutatud vase standardist (IACS). Hapnikuvaba-vase juhtivus on suurem, tavaliselt üle 100% IACS-i, kuna tera piiridel ei ole oksiidiosakesi. See eelis on silmatorkavam kõrge-sageduse, väikese-kadu ja täppisahelate puhul. Samuti on OFC soojusjuhtivus parem, muutes selle sobivamaks komponentidele, mis nõuavad tõhusat soojuse hajumist.
Kolmandaks on mehaanilised omadused ja töötlemise jõudlus erinevad.
Normaalsel temperatuuril on tavalisel puhtal vasel hea plastilisus ning seda saab venitada, tembeldada ja ekstrudeerida. Kui aga seda keevitatakse või kuumutatakse kõrgel temperatuuril, reageerib tera piiridel olev vaskoksiid keskkonnas oleva vesinikuga, tekitades vesiniku rabedust ja mikro{1}}pragusid, mis oluliselt vähendavad elastsust ja sitkust. Seda nähtust nimetatakse vesiniku rabeduseks. Hapnikuvaba -vask peaaegu väldib seda probleemi oma äärmiselt madala hapnikusisalduse tõttu. Sellel on kõrgel temperatuuril-töötlemisel, keevitamisel ja kõvajoodisjootmisel suurem stabiilsus ning see on vähem vastuvõtlik pragunemisele. Lisaks on OFC struktuurilt parem ühtlus, stabiilsem jõudlus külmtöötlemise ja lõõmutamise ajal ning valmistoodete suurem mõõtmete täpsus.
Neljandaks on korrosioonikindlus ja kasutusiga erinevad.
Tavalises puhtas vases sisalduvad oksiidid võivad muutuda korrosioonipunktideks, mis kiirendavad kohalikku korrosiooni niiskes, happelises või soolasisalduses{0}}. Hapnikuvaba -vasel on ühtlasem maatriks ja vähem defektikohti, mistõttu on sellel suurem vastupidavus atmosfääri-, vee- ja osalisele keemilisele korrosioonile. Pikaajalisel-kasutamisel, eriti karmides keskkondades, on OFC-toodetel stabiilsem jõudlus ja pikem kasutusiga.
Lõpuks on need rakendusvaldkondades üsna erinevad.
Tavalist puhast vaske kasutatakse laialdaselt igapäevastes juhtmetes ja kaablites, tavalistes elektrikomponentides, soojusvahetites, arhitektuursetes kaunistustes ja üldistes tööstuslikes osades, kuna see suudab rahuldada põhilisi jõudlusvajadusi madalamate kuludega. Hapnikuvaba-vaske kasutatakse aga tipptasemel-ja täppisvaldkondades, nagu suure-täpsusega helikaablid, signaaliedastusjuhtmed, vaakumelektroonilised seadmed, kosmosetööstuse komponendid, kiirraudtee täppisosad, täppismootorid, trafod ja teaduslikud uurimisseadmed. Nendel väljadel on ranged nõuded juhtivuse, stabiilsuse, töökindluse ja kasutusea osas, seega muutub hapnikuvaba vask{6}} asendamatuks.
Kokkuvõtteshapniku-vaba vask ja tavaline puhas vask erinevad hapnikusisalduse, sisestruktuuri, juhtivuse, kõrgel-temperatuuri stabiilsuse, korrosioonikindluse ja kasutusalade poolest. Tavaline puhas vask on kulutõhus-ja sobib üldiseks tööstuslikuks ja tsiviilkasutuseks. Hapnikuvaba-vask, millel on ülikõrge-puhtus, suurepärane juhtivus ja kõrge stabiilsus, on suure-jõudlusega materjal tipptasemel-tootmis- ja täppistööstuses. Nende kahe vahel valimine peaks põhinema konkreetsetel jõudlusnõuetel, teeninduskeskkonnal ja kulueelarvel.
