Kõige kriitilisem erinevus seisneb nende süsinikusisalduses, mis mõjutab kõrgtemperatuuri käitumist:
NI200: Sisaldab pisut suuremat süsinikusisaldust, tavaliselt ulatub0,10% kuni 0,15% maksimaalselt(minimaalse nikli puhtusega 99,6%). Mikroelementide hulka kuuluvad väikesed raudade, vase, mangaani, räni, väävli ja koobalti, kuid süsinik on siin peamine eristaja.
Ni201: On puhta nikli "madala süsihappegaasiheitega" variant, mille süsinikusisaldus on piiratud0,02% maksimaalselt(Nikli puhtus on suurem või võrdne 99,6%). Muud jäljeelemendid on peaaegu identsed NI200 -ga, kuid selle määratlev omadus on vähendatud süsinik.
Süsinikusisalduse erinevus põhjustab kõrgenenud temperatuuridel käitumise olulist erinevust, eriti karburiseerimiskeskkonnas (kus esinevad süsinikurikkad gaasid):
NI200: Temperatuuridel üle 315 kraadi (600 kraadi F), muudab NI200 kõrgem süsinikusisaldus vastuvõtlikuksgraafimine- protsess, kus süsinik sadestub grafiidina, põhjustades omaksvõtu, elastsuse kaotuse ja potentsiaalse pragunemise. See piirab selle kasutamist kõrgtemperatuurides, süsinikurikkates keskkondades.
Ni201: NI201 vähese süsinikusisaldusega sisaldus hoiab ära grafitiseerimise isegi temperatuuridel kuni 650 kraadi (1200 kraadi F). See muudab selle suuremaks temperatuuril karburistingimustes, näiteks tööstuslikes ahjudes, kuumtöötlemise seadmed või keemilised protsessid, mis hõlmavad süsinikmonooksiidi (CO) või metaani (CH₄), kõrgendatud temperatuuril vastupidavamaks.
Kuigi nende toa-temperatuuri mehaanilised omadused on peaaegu identsed, ilmnevad spetsiifilistes tingimustes peened erinevused:
Toatemperatuur: Mõlemal sulamistel on sarnane tõmbetugevus (lõhutud materjali puhul suurem või võrdne 310 MPa), pikenemine (suurem või võrdne 40%) ja kõvadus (vähem või võrdne 70 tundi lõõmutatud tingimustes). Need on väga kõrvaltoimelised ja moodustatavad, sobivad külmaks tööks (nt painutamine, joonistamine).
Kõrge temperatuur: NI201 säilitab graafilisele vastupidavuse tõttu temperatuuril üle 315 kraadi parema elastsuse ja sitkuse, samas kui NI200 võib samades tingimustes muutuda hapraks.
Nende erinev kõrge temperatuuriga stabiilsus viib erinevate kasutamise juhtumiteni:
NI200: Ideaalne madala kuni mõõduka temperatuurirakenduse jaoks, kus karburistumine ei muretse. Ühisteks kasutusaladeks on järgmine:
Keemilised töötlemisseadmed (paagid, ventiilid) suure korrosioonikindluse tõttu mitteoksüdeerivates hapetes (nt vesinikkloriidhape) ja aluseliste lahuste tõttu.
Elektrilised komponendid (akud, kütteelemendid, pistikud) selle kõrge elektrijuhtivuse tõttu.
Toiduainete töötlemise masinad, kus puhtus ja korrosioonikindlus on kriitilised.
Ni201: Eelistatud kõrgtemperatuuriliste rakenduste jaoks, eriti need, mis hõlmavad atmosfääre. Tüüpilised kasutusviisid hõlmavad järgmist:
Kõrgete temperatuuride ja süsinikurikaste gaasidega kokku puutunud ahju komponendid (retordid, kütteelemendid).
Krüogeensed seadmed (hoitud elastsuse tõttu väga madalatel temperatuuridel, sarnaselt NI200-ga, kuid lisatud kõrge temperatuuriga stabiilsusega).
Keevitatud struktuurid kõrge kuuma keskkonnas, kuna selle madala süsinikusisaldusega sisaldus vähendab keevisõmbluse riski.
Lühidalt öeldes on NI200 ja Ni201 peaaegu identsed puhtuse ja toa temperatuuri omaduste poolest, kuid NI201 madalam süsinikusisaldus muudab selle paremaks kõrgtemperatuuril, karburiseeruvas keskkonnas, samas kui NI200 on madalama temperatuuriga rakenduste jaoks kuluefektiivsem, kus süsinikuga seotud omastamine ei ole oht.
